-
Deskripsyon
Gwo-vitès, chip-gratis lazè grafing ak lajè kerf minimòm, asire maksimòm pwodiksyon substra ak presizyon.
-
Konpatibilite materyèl
Alumina (Al₂O₃), nitrure aliminyòm (AlN), zirkonya, nitrure Silisyòm, karbid Silisyòm, seramik metalize, substrats HTCC/LTCC/DBC/DPC, séparateur polymère ak kouch seramik.
-
Avantaj kle yo
- Fib enpulsyonèl lazè ak tèt lazè koutim reyalize dyamèt gwo bout bwa 5μm
- Etwat kerf ak segondè sede substra
- Gwo -vitès ekri jiska 2500mm/min
- Sistèm vizyon CCD pre-eskane sifas pou ekri egzat seramik metalize yo
- Presizyon pwezante platfòm XY Mwens pase oswa egal a ±3µm
- Sipòte pwezante vizyèl avanse: crosshairs, ti sèk solid/kre, ang ki gen fòm L-, ak pwen karakteristik imaj.
-
Entwodiksyon machin
- Konsepsyon debaz:Lazè enpulsyonèl fib, tèt lazè koutim, platfòm XY motè lineyè, pre-eskanè vizyon CCD, ak sistèm pwezante presizyon
- Precision & Estabilite:Asire zewo chipping ak bon jan kalite ki konsistan menm sou substrats konplèks
- Opsyon pouvwa:150W lazè (personnalisable pou epesè substrate espesifik ak materyèl)
- Lojisyèl:Sipòte CAD enpòte ak pwezante vizyèl pou divès kalite substra
Done teknik
Atik
Paramèt
Longèdonn lazè
1060-1080nm
Pouvwa pwodiksyon lazè
150W (opsyonèl)
Max.cutting ranje
300 * 300mm
Koupe epesè
0.2-2mm (Depann sou materyèl)
Precision nan repete pwezante nan X/Y aks
±3µm
Vitès pwosesis
0-2500mm / min
Akselerasyon maksimòm
1.0G
Worktable presizyon
Mwens pase oswa egal a 0.015mm
Mòd transmisyon
motè lineyè +0.1µm griyaj règ
Pouvwa machin antye (pa gen fanatik)
Mwens pase oswa egal a 6KW
Pwa total nan machin nan tout antye
Apeprè 1700KG
Dimansyon ekstèn (longè * lajè * wotè)
1500 * 1400 * 1800mm (Pou referans)
Senaryo aplikasyon konpozan
1. Ekri ak divize mete-So ki rezisteNitrure Silisyòm, carbure Silisyòm, bag sele zirkonya, ras kote yo pote, bi seramik ibrid
2. Formation Substra seramikPlak chofaj alumina/nitrur aliminyòm ak susceptor pou semi-conducteurs ak gwo -fono tanperati
3. Fòme substrate pou zouti espesyal koupe seramikZirkonya foure seramik ak espas vid pou zouti koupe presizyon
4. Substrat anbalaj seramik (HTCC/LTCC/DBC/DPC)Gwo -tanperati/ba-tanperati ko-modil seramik te tire, DBC/DPC substrats
5. Faktori batri ityòm-ionSeparatè polymère kouvwi ak kouch seramik alumina / boehmite
6. Enèji idwojèn ak selil gazYttrium-zirkonya estabilize (YSZ) elektwolit ak fèy elektwòd pou SOFC
OEM & Opsyon personnalisation
- Pouvwa lazè, dyamèt gwo bout bwa, ak konfigirasyon platfòm XY customizable pou diferan materyèl substra ak epesè
- Ajisteman paramèt lojisyèl pou HTCC/LTCC, seramik metalize, oswa polymère-substra seramik
- Solisyon pwepare pou pwodiksyon wo-sede ak konsistans pakèt
Kontwòl Kalite
- Sistèm vizyon CCD pre-eskane substrats pou aliyman ak deteksyon defo
- Pwosesis zewo-chipping pou gwo-sede substrate bon jan kalite
- Siveyans tan reyèl-nan pwosesis ekriti ak koupe
- Trasabilite done konplè-pwosesis yo disponib pou aplikasyon semi-conducteurs ak enèji-
Apre{0}}Lavant Sèvis
- Sou-enstalasyon ak komisyonin sou sit oswa aleka
- Fòmasyon operatè pou antretyen ak optimize workflow
- Sipò teknik ak depanaj
- Pyès rezèv ak sèvis antretyen alontèm-
FAQ
Q1: Èske machin nan ka trete seramik metalize ak substra mens?
A1: Wi, sistèm vizyon CCD a asire ekriti egzak sou seramik metalize ak substra mens jiska 0.2-2mm.
Q2: Ki presizyon pwezante XY la?
A2: Platfòm XY a bay mwens pase oswa egal a ±3µm presizyon, asire chip-gratis ekriti.
Q3: Èske machin nan ka okipe substrats espesyalize pou selil solè oswa selil gaz?
A3: Wi, li sipòte selil PV ak fèy elektwolit / elektwòd YSZ pou SOFC.
Q4: Èske pouvwa lazè a reglabl?
A4: Wi, 150W estanda, ak opsyon customizable depann sou epesè materyèl ak kalite.
Baj popilè: seramik lazè dicing machin, Lachin seramik lazè dicing machin manifaktirè, Swèd, faktori