YCLASERAluminum Nitrure RF Substrate Lazè Processing Machine se devlope espesyalman pou machin presizyon nan nitrure aliminyòm (AlN) substrats yo itilize nan aparèy segondè frekans tankou 5G, milimèt- onn, anplifikatè pouvwa RF, ak filtè.
Espesifikasyon machin
| Non. | Atik | Paramèt |
| 1 | Longèdonn lazè | 1060-1080 nm |
| 2 | Lazè Sòti pouvwa | 150W (Personalize) |
| 3 | Max. Koupe Range | 300 × 300 mm |
| 4 | Koupe epesè | 0.2-2 mm (Selon materyèl) |
| 5 | Presizyon nan pozisyon repete nan X / Y aks | ±3 μm |
| 6 | Pwosesis vitès | 0-2500 mm/min |
| 7 | Maksimòm vitès vwayaj | 60 m/min |
| 8 | Maksimòm Akselerasyon | 1.0G |
| 9 | Presizyon Tab Travay | Mwens pase oswa egal a 0.015 mm |
| 10 | Mòd transmisyon | Enpòte motè lineyè + 0.1 μm griyaj règ |
| 11 | Tout pouvwa machin (pa gen fanatik) | Mwens pase oswa egal a 6 kW |
| 12 | Pwa total de machin antye | Apeprè . 1700 kg |
| 13 | Dimansyon ekstèn (longè × lajè × wotè) | 1400 × 1500 × 1800 mm |
Opsyon Konfigirasyon Lazè fleksib
1. 150W QCW quasi-lazè fib kontinyèl
2. 300W QCW quasi-lazè fib kontinyèl
3. 30W 355nm nanosgond UV lazè (Solisyon prensipal rekòmande pou substra frekans segondè -)
Modil ekspansyon si ou vle:
- Fully otomatik chaje ak dechaje sistèm
- Sistèm aliyman otomatik konplè-chaden CCD vizyon
Aplikasyon tipik
Ekipman an apwopriye pou trete plizyè kalite substrats nitrure aliminyòm yo itilize nan aplikasyon kominikasyon RF. Aplikasyon kle yo enkli:
- 5G / milimèt-vag RF aliminyòm nitrure sikwi substrats
- Pòtè seramik pou anplifikatè pouvwa RF, izolatè, ak filtè
- Substra AlN pou anbalaj aparèy mikwo ond segondè -frekans
- Ti ak iregilye substrats seramik pou modil semi-conducteurs RF
- Substra dissipation chalè nitrure aliminyòm pou aparèy RF gwo -frekans segondè-pouvwa
Kapasite pwosesis entegre
Yon sèl machin ka ranpli tout pwosedi pwosesis presizyon pou substrats RF, sipòte tou de devlopman pwototip ak pwodiksyon gwo -echèl:
- Gwo -presizyon iregilye koupe kontou
- Mikwo etalaj nan-two ak avèg-twou perçage
- Machin egzak nan fant enpedans RF ak izolasyon mikwo-fant
- Ba-rediksyon kwen oksidasyon ak epesè kouch oksid sifas kontwole
- Ouvèti egzak nan zòn kondiktif metalize
- Fòmasyon entegre nan kontou konplèks pou konpozan RF miniaturized
Karakteristik Ekipman
1. Segondè -rigidite entegre baz machin mab, bay alontèm pwosesis kontinyèl san deformation tèmik ak asire ki estab dimansyon sikwi RF.
2. Enpòte platfòm mouvman lineyè motè, ki bay gwo -operasyon vitès ak Vibration ki ba pou anpeche kwen seramik chipping ak devyasyon dimansyon ultra-substra mens.
3. Full-aks fèmen-bouk griyaj sistèm kontwòl mouvman fidbak, kenbe presizyon pozisyon alontèm-san derive.
4. Segman gwo -pite segondè-azòt presyon-siste gaz ede, rapidman retire résidus fonn ak siprime oksidasyon ak nwasi sou kwen koupe.
5. Endistriyèl konstan -tanperati dlo refwadisman sistèm, kontinyèlman kontwole tanperati ekipman ak diminye estrès tèmik -pwovoke mikwo-fant nan nitrure aliminyòm.
6. Bati-nan baz done pwosesis dedye aliminyòm nitrure RF, matche segondè -frekans ak ba -estanda machin pèt.
7. Otomatik pwosesis estanda travay, ak otomatik rediksyon pouvwa tanpon nan mikwo-twou ak etwat- zòn plas pou evite domaj ki te koze pa estrès akimile.
Poukisa chwazi WHYC RF seramik lazè ekipman
Pwofesyonèl manifakti ekipman lazè presizyon ak ekspètiz gwo twou san fon nan pwosesis substrate nitrure aliminyòm pou kominikasyon ak aplikasyon RF.
Solisyon pwosesis devwe devlope pou seramik avanse ki gen ladan nitrure aliminyòm, alumina, nitrure Silisyòm, ak Carbide Silisyòm.
Konplètman konpatib ak estanda akseptasyon strik nan endistri RF, ki gen ladan oksidasyon-pwosesis gratis, pèt ki ba, ak zewo mikwo-kondisyon krak.
Livrezon yon sèl-ki gen ladan pyès ki nan konpitè machin pèsonalize, optimize pwosesis RF, ak sipò teknik sou sit-.
Egzanp gratis tès anvan achte
Kontakte nou jodi aepi voye echantiyon ou yo nan etablisman nou an. Nou pral evalye bon jan kalite koupe, kondisyon kwen, ak paramèt pwosesis, Lè sa a, rekòmande solisyon an pwosesis lazè ki pi apwopriye.WHYC bay solisyon konplè Customized pou pwosesis lazè substrate nitrure aliminyòm RF.
Kesyon yo mande souvan
K: Èske machin nan fè egzèsis nitrure aliminyòm substrats RF?
A: Wi. Sistèm nan sipòte plizyè pwosesis lazè, ki gen ladan koupe presizyon, perçage mikwo twou, machin plas, ak pwosesis kontou pou substrats seramik AlN RF.
K: Ki jan pwosesis lazè afekte pèfòmans substrats AlN RF?
A: Substra RF mande pou kontwòl strik sou bon jan kalite sifas ak presizyon dimansyon. Machin nan sèvi ak paramèt lazè optimize ak kontwòl mouvman presizyon pou misyon pou minimize fant, chipping, ak domaj tèmik, ede kenbe fyab substra apre pwosesis.
K: Ki epesè aliminyòm nitrure RF substrats ka trete?
A: Kapasite pwosesis la depann de epesè substrate, gwosè, ak bon jan kalite kwen obligatwa. Machin nan ka Customized pou diferan espesifikasyon substra AlN yo itilize nan aplikasyon RF, mikwo ond ak semi-conducteurs.
Baj popilè: aliminyòm nitrure rf substrate lazè machin, Lachin aliminyòm nitrure rf substrate lazè machin manifaktirè, Swèd, faktori
